物鏡VMU-L4B日本三豐Mitutoyo顯微鏡VMU-LB
簡要描述：
物鏡VMU-L4B日本三豐Mitutoyo顯微鏡VMU-LB378-513 378-514金屬、樹脂、印刷面、微小的?適用于YAG激光器（近紅外、可見、近紫外線、紫外線）的微細加工※1半導體電路的切割、修剪、修正、標記、薄膜（絕緣膜）的去除、加工、液晶濾色器等修復（缺陷修正）等。?支持紅外光學系統※2硅系的內部觀察、紅外線的光譜特性分析等。
產品型號：378-513/378-514
產品時間：2025-05-21
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Mitutoyo 378系列物鏡具有世界上長的工作距離和無限遠校正光學系統。這些物鏡可提供高倍率下的靈活觀察和色差的獨立校正。
- 長工作距離的物鏡可在透鏡表面和聚焦的工件表面之間提供出色的間隙，從而可以觀察由于突出的突起而通常難以聚焦的工件。
- 冶金復消色差物鏡（M Plan Apo）物鏡可在整個視場中提供平坦，無色差的圖像，使其適用于任何類型的顯微鏡。
- 特殊設計的物鏡還可用于近紅外輻射，近紫外輻射和紫外線輻射或各種厚度的LCD屏幕玻璃的校正。
VMU
378 系列 — 視頻顯微鏡系統
• 緊湊輕量型顯微鏡，相機觀察用型。適于
檢測金屬表面、半導體、液晶面板、樹脂等。
• 多種鏡體通常用作適用于專業器械的OEM
(原廠委制) 產品，如那些利用YAG (近紅外、
可見、近紫外或紫外) 激光* 對半導體晶片
進行檢測和修補的設備。
* 不保證激光系統產品的性能和安全性。
應用：切割、修整、校正、 給半導體電路做
標記/ 薄膜(絕緣膜) 清潔與加工、液晶彩色
濾光器的修復 (校正錯誤)。還可用作光學觀
察剖面圖以便探頭分析半導體故障。
• 對于VMU-LB 和 VMU-LB， 顯微鏡主件的剛度
和總體性能與之前的型號相比已有所提高。
• 應用*: 晶體硅的內部觀察、紅外光譜特征
分析等。
* 需要紅外光源和紅外攝像機。
• 配有孔徑光闌的遠心光學系統是表面照明
光學系統上的標準配件。適于需要均勻
照明的圖像處理。可用于尺寸測量、形狀
檢驗、定位等。
• 設計和制造均能滿足您的需求，如雙攝影
機架、雙(低/ 高) 放大率觀察。
物鏡VMU-L4B日本三豐Mitutoyo顯微鏡VMU-LB
| 378-837-7 | 20倍 | 0.36 | 15.0毫米 | -- |
| 378-838-8 | 50倍 | 0.40 | 12.0毫米 | -- |
| 378-839-5 | 80倍 | 0.55 | 11.0毫米 | -- |
| 378-840-7 | 20倍 | 0.28 | 30.5毫米 | -- |
| 378-841-7 | 50倍 | 0.42 | 20.0毫米 | -- |
| 378-842-7 | 80倍 | 0.50 | 13.0毫米 | -- |
| 378-843-7 | 100倍 | 0.55 | 13.0毫米 | -- |
| 378-848-3 | 50倍 | 0.50 | 13.89毫米 | -- |